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第三讲 体硅加工 - 图文
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文章发布时间 : 2025/10/20 15:57:42星期一
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刻蚀液的组成:
48%HF:99.8%C2H5OH:H2O=1:2:17(体积比) 室温工作,300W卤素灯背照明,直流2.5V或者小于30mA/cm2的电流密度,Pt阴极。
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