300mm半导体代工厂Slurry供应系统设计中的品质管理 下载本文

根据slurry供应系统的设计原则,一般并不安装在线的颗粒计数器,以避免产生结晶,通过在系统中安装slurry专用过滤器,可以保证系统供应的slurry研磨液的品质,当然也可以通过定期的取样分析来监控整个系统的slurry品质。但根据某些特殊的需要,也可以安装在线的颗粒计数器。

Slurry供应系统的出口压力(Outlet Pressure)的监控非常重要。由于CMP制程设备通常没有缓冲容器,一旦压力发生波动,将导致所有涉及到的设备全部停机。同时,slurry供应系统中的过滤器必须定期更换,更换频率视slurry流量而定。在一般的8英寸或12英寸厂中,基本采用一周更换一次的频率。图3为某品牌过滤器各型号的过滤曲线。

在每一个混酸槽(Dilution Tank)和供应槽(Day Tank)处,都可以设计一个取样口,以便随时监控桶槽内slurry溶液的质量。至于原液,一般不设计取样口,由原液供应商来保证原液的质量。所以原液供应商的选择将是非常重要的,一旦有所闪失,整个晶圆代工厂将遭受不可预料的损失。

Slurry供应系统的安全设计

根据MSDS(Meterial Safety Data Sheet,物质安全资料表),slurry是分散于去离子水中的二氧化硅悬浮液,因此这些物质不太可能产生气相成份而漫延扩散。然而当它受到摩擦或干扰时,可能会产生粉尘,接触到皮肤与眼睛后可能会有刺激性反应,同时对于环境亦有影响。

Slurry具有较强的酸性或者碱性,若操作不当,会对操作人员的人身安全产生威胁。有些代工厂的Slurry供应系统安装在无尘室中,一旦发生大量泄漏,会污染无尘室环境。通常可采取的措施有:在供应机台、阀箱和桶槽底部安装泄漏侦测器;主管路采用双套管管路设计,内管为PFA材质,外管为透明的CPVC材质。Slurry在内管中输送,如果内管发生破裂泄漏,管内的slurry就会顺着内外管之间的空隙流到阀箱或供应柜,然后由安装在该处的泄漏侦测器引发警报;在桶槽顶部安装安全阀,氮气进气口安装泄压阀,当桶槽内压力过大时,系统将会自动泄压,以避免爆炸的危险性;在系统周围设置围栏,并设置简易的测漏系统(例如测漏线)。通过采用这些措施,可以尽快地发现问题并及时解决,最大限度地保证人身安全。

Slurry供应系统防止结晶物产生的特殊设计

一般而言,为了减少结晶物的产生,Slurry供应系统的设计通常会遵循的原则有:离CMP制程越近越好,由此避免由于输送管路过长而产生的结晶物;循环管路,可参考图2。这样的设计可以避免Slurry在管路中静止而产生的结晶物;接头、弯头、阀门、元件(如在线监控仪器)越少越好,同时在设计中应尽量避免产生死角。

由于slurry溶液中不可避免的会有一些大的结晶体,某些阀门的膜片会被刮伤而产生漏液现象。因此,需要选用厂商推荐的slurry供应系统专用阀门,并且定期对某些开关频繁且位置重要的阀门(如系统的出口阀、泵的出口阀、桶槽的泄压阀等等)进行更换。

对于输送的泵同样如此。由于slurry溶液易于结晶的特殊性,在一些隔膜泵(Bellow Pump)的隔膜的褶皱处会形成大量的颗粒物,既影响了slurry溶液的品质,也会造成泵腔体的损坏。因此,在0.13μm节点以下的Cu slurry中,通常不建议使用隔膜泵,可以采用磁力泵等。同时,泵缓冲器(Damper)的选择也尤其重要。缓冲器常常由于被堵塞漏气而失去缓冲的效果。液体在输送过程中对管路的不断冲击将缩短一些部件(如阀门、接头等)的使用寿命。因此,找到优秀的厂商并使用他们所推荐的slurry供应系统专用泵是一个明智的选择。

另外,氮气作为密闭气体和制程气体,通常会与slurry溶液表面接触(slurry应绝对避免与空气接触)。根据气液传导的基本原理,在接触的过程中,slurry溶液中的水分会扩散到氮气中。如果使用绝对干燥的氮气,将使slurry溶液表面产生一层结晶物。因此,在氮气与s

lurry溶液接触之前,应使用加湿器提高含水量(通常应达到90%以上),然后才和slurry溶液接触,以避免结晶物的产生。

最后,在线仪器的监控、VMB阀箱的设计、Filter定期更换的频率、定期的KOH Flush等都会对该系统的性能产生一定的影响。

总结

在最新代的主流生产技术中,300mm晶圆已采用130nm、90nm及65nm技术,并且由于更集成的先进技术,与8英寸芯片相比,生产成本至少降低了30%。因此,发展300mm乃至450mm晶圆是未来的一种趋势。在300mm厂的资本密集度和生产规模下,slurry研磨液中央供应系统的任何问题都会造成无法估量的损失,slurry研磨液供应系统的设计应该吸取以往的经验,使用新技术和新材料,不断提高slurry研磨液供应系统的稳定性和可靠性。同时,应从设计开始,就注重于品质的控管和减少结晶物的产生,以保证CMP制程的正常使用。