；F发生硝化反应的反应方程式为
得到的产物的名称为2-硝基-1,4-苯二甲酸或硝基对苯二甲酸。
答案：(1)NaOH(或Na2CO3) ClCH2CH===CH2 氯原子、碳碳双键 (2)氧化反应 (3)C16H21O2N
(4)Cl2/光照 CH3CH2OH
――→CH2===CH—CH3＋NaCl＋H2O 取代反应 △
(5)
2-硝基-1,4-苯二甲酸(或硝基对苯二甲酸)
3．非诺洛芬是一种治疗类风湿性关节炎的药物，可通过以下方法合成：
请回答下列问题：
(1)非诺洛芬中的含氧官能团为________和________(填名称)。
(2)反应①中加入的试剂X的分子式为C8H8O2 ，X的结构简式为__________________。 (3)在上述五步反应中，属于取代反应的是________(填序号)。
(4)B的一种同分异构体满足下列条件：Ⅰ.能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应。Ⅱ.分子中有6种不同化学环境的氢，且分子中含有两个苯环。写出该同分异构体的结构简式：________________________________________________________________________。
(5)根据已有知识并结合相关信息，写出以
NaOH溶液
的合成路线CH3COOH
流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下：CH3CH2Br――→CH3CH2OH――→
△浓硫酸，△CH3COOCH2CH3
解析：(1)根据非诺洛芬的结构简式可知，非诺洛芬的含氧官能团为醚键和羧基。(2)由
转化成，发生取代反应，结合X的分子式C8H8O2知，其结构简式
为。(3)根据官能团之间的转化关系可知，属于取代反应的是①③④。(4)B的同分
异构体能发生银镜反应，说明含有醛基；水解产物能与FeCl3发生显色反应，说明含有酚羟基；分
子中含有2个苯环，有6种不同的H原子。则结构简式为
题给信息，运用逆推法得到中间产物，并确定合成路线，具体见参考答案。
。(5)结合
答案：(1)醚键 羧基 (2)
(3)①③④ (4)
4．光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：
(1)
写
出
A
的
结
构
简
式
________________________________________________________________________。
(2)B
分
子
中
所
含
官
能
团
名
称
为
________________________________________________________________________。
(3)乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E→F的化学方程式为______________________。
(4)由
B
到
C
的反应类型为________。由
F
到
G
的反应类型为
________________________________________________________________________。
(5)D
和
G
反
应
生
成
光
刻
胶
的
化
学
方
程
式
为
________________________________________________________________________
________________________________________________________________________。 (6)C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应； ②苯环上的一氯取代产物只有两种。 写
出
该
同
分
异
构
体
的
结
构
简
式
：
________________________________________________________________________。
(7)根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。
NaOH溶液
CH3COOH
合成路线流程图示例如下：CH3CH2Br――→CH3CH2OH――→CH3COOCH2CH3
△浓硫酸，△
解析：(3)E能发生水解反应所以E中含有酯基，结合E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1可确定E的结构简式。
(4)B到C是醛的氧化，F到G是酯的水解。
(6)由①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应可推知该同分异构体中含有醛基，苯环和酚羟基；由②苯环上的一氯取代产物只有两种可推知苯环上各个取代基的分布位
置，故该同分异构体的结构简式为
答案：(1) (2)碳碳双键、醛基
催化剂
(3)nCH3COOCH===CH2――→ (4)氧化反应 水解反应